半导体、电子行业喷涂用二流体喷嘴的要求
工业喷雾喷嘴在电子行业有着广泛的应用，可应用于半导体制造过程，硅晶片制造工序，等离子体显示器制造、电子显像管、以及印制电路板的制作（PCB）中，显影、蚀刻、冲刷、除膜、喷涂等众多工序。同时还能用于消除静电，保障电子行业生产顺利进行，是电子行业中不可缺重要装置。
光刻胶，是一种对光敏感的化学物质。它是由光敏树脂、增感剂、溶剂三种主要成分组成。经曝光之后，胶会产生化学反应，从而导致溶解度发生变化。利用这种性质，通过带有特定图形的掩膜就可以在基板上得到特定的图形。我们首先将光刻胶涂覆到半导体材料上，经过曝光显影后，留下的光刻胶部分相当于对底层进行保护，之后用蚀刻剂进行蚀刻，最终达到将掩膜版上特定的微细图形转移到衬底上的目的，因此光刻胶是微细加工技术中的关键性材料。
如何将光刻胶均匀且符合工艺要求的涂覆到衬底表面，也是非常关键的课题。目前涂覆工艺有旋涂、浸涂以及超声波喷涂等工艺。旋涂，也就是离心旋转法，是将一定量的光刻胶溶液滴在基材表面，随后通过离心力的作用将胶铺展到基片上，此种方法可以得到厚度均匀的光刻胶薄膜，但普遍存在膜厚偏薄且厚度范围调节不稳定的问题。而且采用离心旋转法涂胶，在旋转过程中基片上多余的光刻胶被甩出，造成光刻胶浪费。而浸涂法，虽然操作方便效率高且涂料利用率也比较高，但只适用于形状简单的流线型材料，而且涂料量不好控制。
Atmax喷嘴是获得的“外混合涡流式紧凑型精密二流体喷嘴"，非常适合雾化液体。
高速旋流将液体高效粉碎雾化成雾化喷雾。液滴尺寸分布也非常好。喷嘴内部结构非常简单，大直径可以稳定连续喷射，不会堵塞。为了获得雾化液体，人们一直认为液体应该通过微小的孔喷射出来，但Atmax喷嘴是一个源自想法的原创产品。
还可以喷涂以前难以雾化的粘性液体、浆料和乳液。
由于是外置混合喷嘴，因此喷嘴内部不存在液体堵塞的可能性。
液体流路具有简单的直线结构。
与传统喷嘴相比，喷雾孔径更大（约10至200倍）。
即使在低压下也能进行喷雾操作，因此不会滴落或滴落。
即使喷射直径很大，也可以喷射出细小的颗粒。涡流雾化提供非常均匀的颗粒尺寸。
可以用单个喷嘴控制喷射的颗粒从相当于5微米到雨滴大小。
该喷嘴也非常适合多种液体的混合喷涂。液体供应通过管道分别输送到喷嘴附近，从而可以在喷嘴喷射部分进行混合喷射。当由于液体的性质而无法预先搅拌和混合时，它是有效的。
由于部件配置简单，喷嘴可以根据使用环境和耐化学性采用特殊材料制造。我们可以选择和制造耐热、耐腐蚀、耐磨材料。
由于单喷嘴的喷射控制自由度较大，因此喷射条件的设定相对容易。通过控制供应的液体量和雾化气体的流速，可以实现所需的喷射设置。
喷嘴尺寸极小，因此可以安装在任何地方。
由于重量轻，因此可以轻松安装在设备中。喷嘴可以使用注射口附近的安装螺钉和螺母固定。
只有两个部件，因此易于安装和拆卸，维护简单。
我们的技术可实现高效的雾化喷涂。与传统喷嘴相比，雾化消耗的压缩气体更少。
由于喷嘴具有自吸功能，无需泵即可喷射低粘度液体。
通过微量精密喷雾，即可获得平均粒径约5μm的超细颗粒。它有一个非常小的喷嘴，可以与20-750瓦的空气压缩机一起运行。主要用途包括表面薄膜涂层、科学和医疗领域的极微量喷涂以及房间和各种设施的灭菌和消毒。
AM6和12型适合以极低的流量喷射细颗粒。压缩气体流量也比传统喷嘴小。主要应用包括半导体晶圆精密喷涂、电子元件及功能材料制造过程中的薄膜形成、喷涂、镀膜等。
基本结构与AM型相同，但喷嘴具有更大的喷雾流量。
应用包括成型工艺、高粘度液体涂层、喷雾干燥机喷嘴、在食品上喷洒调味液以及重油和工厂废油的高温燃烧。
Atmax喷嘴BN型虽然具有φ2.0～φ6.0mm的大液体喷射孔径，但能够进行极其稳定的喷雾。它适用于大喷雾流量的工作，并且具有作为批量生产设备的喷嘴头使用的良好记录。生产线上有喷涂工序、陶瓷上釉、压铸制造过程中的脱模剂喷涂盒、废气净化设备的喷嘴头等。该喷嘴能够连续运转而不会堵塞，并且能够雾化大量的处理液。
该喷嘴专为适用于生产线和工厂中的大流量喷涂而开发。喷雾直径大，可将粘度1000cp以下的低粘度液体燃烧至汽油、煤油、重油、汽车传动废油、食用废油等高粘度易燃废油以及油脂液体和固体相当于10,000cp的粉末，可用于雾化所混合的浆料等液体。
Atomax喷嘴CNP型具有φ3.5～φ5.6mm的超大液体直径，即使是高粘度液体也能雾化，不会堵塞、下垂或滴落。所有零部件均由金属制成，耐化学腐蚀，适合在高温环境下连续运行。 CNW有两个供液口，可以将两种不同类型的液体分别供给到喷嘴，然后在喷嘴喷射口处混合喷射。根据工作条件，可以在不需要预先进行液体混合的情况下进行工作。
