光学膜厚仪OMD-1000的运用范围
典型应用领域
半导体制造业，光刻胶、氧化物、硅或其他半导体膜层的厚度测量。
生物医学原件：聚合物/聚对二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入药物涂层。
微电子：光刻胶；硅膜；氮化铝/氧化锌薄膜滤镜
液晶显示器：盒厚；聚酰亚胺；导电透明膜
由于是光学测量，在测量时候无须担心破坏样品，让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。
这是一种光谱膜厚监测仪，可监测在气相沉积过程中用单色光在基板上产生的光量变化。它也用在我们自己的薄膜沉积设备中，并作为膜厚监测设备完成，该设备具有气相沉积零件制造商的专业知识。
在传统型号中，波长选择是滤光片类型，但是新产品采用了我们公司具有良好记录的分光镜，现在可以选择任何波长。
膜厚变化的信号是从电压输出到与个人计算机兼容的数字输出，控制机构是从手动操作到个人计算机的命令控制。另外，通过将薄膜厚度计主体通过I / F直接连接到个人计算机来控制其厚度成为可能，这是一个非常紧凑的系统，无需像其他制造商那样的控制器。
| 模型 | OMD-1000 |
| 光谱仪类型 | 切尔尼·特纳（Czerny Turner）类型单单色 |
| 波长范围 | 保证范围：380至900 nm可操作 范围：350至1100 nm |
| 波长分辨率 | 狭缝0.5mm：4.2nm [546nm] 狭缝1.0mm：8.3nm [546nm] |
| 波长精度 | ±1.0纳米 |
| 最小波长进给 | 0.1纳米 |
| 外部控制 | RS232C |
| 外部输出端子 | DC0-2V（满量程） |
| 采样间隔 | 100ms以上 |
| 静电放电试验耐电压 | ±5kV（实际8kV） |
| 光源 | 12V100W卤素灯 |
| 光强度稳定性 | ±0.1％/ h以下 |
| 输入电压 | AC100V 50/60赫兹 |
| 允许输入电压 | AC85-132V |
| 视在功率 | 340VA以下 |
| 使用环境 | 温度10-35℃ 湿度20-80％ |
